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现代计算机通过执行几十年前几乎不可能实现的任务,正在不断改变我们的生活。各种各样的创新使现代计算机(如我们今天所知)得以实现。但是,有一项基本发明几乎是所有其他事物所依赖的,那就是不起眼的晶体管。让我们看看这个不起眼的设备是如何变成的。
从本质上讲,所有计算机基本上都是执行数学运算的机器。最早的是手动计数设备,例如算盘,而将来开发的设备是使用机械零件。使这些设备成为“计算机”的原因是拥有一种成功代表数字的方法和一种操纵数字的系统。电子计算机以相同的方式工作,但是数字代替物理布置,而是用电压表示。布尔逻辑只有两个可能的值– true(1)和false(0),在电子计算机中开始发挥作用。在电子计算机中,方程是通过产生1或0输出的逻辑门电路执行的。对于更高级的操作,这些电路被融合在一起。计算机程序由一组指令组成,详细说明了如何执行这些操作。但是,该系统需要可靠且准确的方法来控制电流。
早期的电子计算机,例如1946年开发的ENIAC(电子数值积分器和计算器),使用一种称为真空管的设备来控制电压。在这种计算机中使用的真空管笨重且不可靠。它们还消耗了荒谬的功率并产生了过多的热量,从而缩短了这些灯管的使用寿命。另一方面,该晶体管要比真空管小得多,并且所用的功率要少得多。另外,由于晶体管使用较少的功率,所以产生的热量最小。因此,它不会像真空管那样经常失败。该晶体管使用半导体代替真空管中使用的电极。用不同的元素(例如磷和硼)处理半导体(例如硅),以生成发射电子的“ N型”和吸收电子的“ P型”。它们被安排为NPN(典型的NPN晶体管),并在发射极,基极和集电极各放置一个端子。在这种晶体管中,输入电压的微小变化可用于在高电压和低电压之间快速切换。
晶体管使现代计算机得以发展。ENIAC是一台重达30吨的大型计算机,有网球场那么大!相比之下,单个具有指甲大小的微处理器(包含数十亿个晶体管)现在可以超越ENIAC的功能。底座和收集器。在这种晶体管中,输入电压的微小变化可用于在高电压和低电压之间快速切换。晶体管使现代计算机得以发展。ENIAC是一台重达30吨的大型计算机,只有网球场那么大!相比之下,单个具有指甲大小的微处理器(包含数十亿个晶体管)现在可以超越ENIAC的功能。
在1920年代,研究人员开始研究使用半导体来放大和切换电话设备中的信号。在1930年代,贝尔实验室的美国物理学家和工程师Marvin Kelly决定寻求制造某种形式的固态设备。他决定挑战William Shockley,Jack Scaff,Russell Ohl等许多同事,研究替代真空管的半导体技术。他知道真空管太不可靠了,无法成为无缝电子产品的最终解决方案。
Russel Ohl开始研究硅晶体,以及如果获得N型或P型硅,硅晶体的制备会如何影响。整流发生的方向定义了硅的类型。Ohl还能够开发出一个样品,其中顶部为p型区域,而底部为n型区域。他发现当光照射到它上时,它会产生电压。
第二次世界大战后的1945年,Shockley开始试验改良的半导体材料,这些材料是为战争中使用的雷达探测器开发的。他研究了一种场效应放大器,该放大器类似于奥匈帝国物理学家Julius E. Lilienfeld于1926年以及德国物理学家Oskar Heil博士于1934年申请的专利。但是,当物理学家John Bardeen提出存在于半导体表面的电子可能阻碍电场向材料中的渗透时,这一突破就来了。在William Shockley的支持和另一位物理学家Walter Brattain帮助下,John Bardeen开始研究这些“表面状态”的行为。
到1947年11月下旬,Bardeen和Brattain设法制造出一种可工作的晶体管,直到1947年12月16日,他们一直在不断改进这种晶体管。在这一天,他们的研究最终达到了用硅制成的工作“点接触”晶体管的顶峰。坐在锗晶体上的两个金箔触点。它也被称为“ PNP点接触锗晶体管”。他们于12月23日进行了巡回演示,向贝尔实验室展示了该固态设备的工作原理。Bardeen和Brattain还花了一些时间为其发明申请专利,并批准将其公开发布给军队。1948年6月,贝尔实验室正式宣布了革命性的固态设备,他们称之为“晶体管”。
然而,Shockley继续构建由Bardeen和Brattain创建的第一个工作晶体管的更可靠和可复制的版本。他很成功,并于1952年推出了他的双极结型晶体管。它是由没有触点的固态半导体材料制成的。本发明优于点接触型,并在接下来的30年中主导了整个行业。他申请了晶体管效应和晶体管放大器的专利。1956年,贝尔实验室的所有三位物理学家,William Shockley, Walter Brattain 和 John Bardeen 因其贡献而被授予诺贝尔物理学奖。
1952年,结型晶体管首次用于商业产品,即Sonotone助听器。此后,在1954年,制造了第一台晶体管收音机Regency TR1。不断开发不同的制造方法以生产更快,更便宜和更可靠的晶体管。另一个重要的进步是1954年制造的硅晶体管,首先是贝尔实验室的Morris Tanenbaum制造的,此后不久,由化学家Willis Adcock领导的德州仪器(TI)的一个团队制造了这种晶体管。到50年代末,硅已成为制造晶体管的行业首选材料,德州仪器(TI)成为主要的半导体供应商。
位于加利福尼亚州硅谷的一家初创公司创建了Fairchild公司。1958年,他们推出了双扩散硅台面晶体管,并在商业上取得了巨大成功。此后不久,瑞士物理学家Jean Hoerni创造了革命性的平面工艺,将晶体管的制造过程从半手工操作转变为大批量的自动化生产过程。这也为现代IC(集成电路)的开发铺平了道路。
1959年,Lilienfeld和Heil的想法激发了韩国电气工程师Dawon Kahng的兴趣,他建造了第一个成功的场效应晶体管(FET),该晶体管由金属,氧化物和硅层组成。通常被简化为MOS的MOSFET(金属,氧化物,硅场效应晶体管)有望成为更小,更便宜且功耗更低的晶体管。Fairchild和RCA等公司于1964年向公众推出了商用MOS晶体管。然而,仅仅十年后,它们就被计算机中的IC所取代。但是,在构建高密度IC时,MOS晶体管被证明是最实用的方法。现在,每天制造的数十亿个晶体管是MOS器件。