别太担心！中国光刻机没有想象中差劲，超日本仅次于荷兰ASM

在美国停止向中国科技公司供应芯片，并威胁台积电将不允许给华为代工芯片的新闻下，有人评论：“因封锁而主动把市场让出来，这是头一次！”

作为领先者主动放弃市场可不是一步好棋，一般情况下，科技市场很难出现大的反转，尤其是在美国垄断的情况下，但现在美国正在主动与中国到处脱钩，这将促进了中国一些相关产业的得到发展。

美国限制是为了让中国在某些问题上做出让步。白宫认为，中国无法大量生产芯片，因为中国缺乏生产芯片的光刻机。据报道，中芯国际可以批量生产14纳米芯片，但是由于缺少EUV光刻机，它生产不了7纳米及以下的芯片。

中国在相关领域的发展真的那么被动吗？

并没有你想象中的那么差劲，更不用说我们早就提前开辟了道路。许多人只看到美国和日本目前在集成电路产业中的优势，而国内似乎一片空白，但实际上，新中国成立后不久就已经开始对该领域的研发进行投资，1958年实现了硅单晶，比日本还早两年。

但是这一领域的市场主要由美国主导，而企业都具有逐利性，他们需考虑到市场成本。而中国人口众多，经济基础薄弱，我们须优先考虑就业等问题，所以市场规模大，技术含量相对低的产品得到了优先发展。对于那些市场规模小，技术难度高的产品，成本不划算，不具有快速的效益，通常将由各大国或研究机构研发，而并不是我们做不了，最典型的例子是光刻机。

大家总是认为西方光刻机是先进的，所以它可以制造芯片，而中国没有技术就不能制造它，但是这种逻辑是错误的，因为只看到了肤浅的市场地位。就光刻机本身而言，它并不是一种完全不可用的技术。荷兰ASML公司占全球EUV光刻机市场的100％，但过去两年全球总出货量仅为44台，这表明光刻机市场狭窄且每个组件的生产成本都很高，因此多年以来，国内没有一个企业愿意去批量生产。

但实际上，中国是具有研制能力的。例如，上海微电子的90纳米光刻机就是一种成熟的产品，上海光机所在8年前就开始开发EUV光源，多亏特朗普，使得原本只是纯科学研究模式的中国光刻机，被迫转型走向市场。也许这就是我们等待了多年的机会，原本散布在中国各个研究机构中EUV领域，将展开全面的合围。

上海微电子最近宣布，它将在2021-2022年交付首台国产28nm工艺浸没式光刻机，这意味着中国在光刻机制造领域已经超过了日本的尼康和佳能，仅次于ASML。同时，研究人员说，这种光刻机将使用ArF光源，雕刻的精度约为1.9纳米，并在多次曝光下能生产11纳米工艺芯片。此外，中国已经在抛光液，抛光垫，光核胶，蚀刻液，显影剂和其他材料（即芯片领域涉及整个产业链），在这两年内能实现了国内替代。

我们拥有的技术能生产更高精尖的光刻机，但我们缺少的是市场机会。既然美国愿意放弃这个市场，这将为我国的半导体产业的发展和壮大提供了绝好机会，在这一点上，我们必须感谢特朗普先生。